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H+ implantation induced defects distribution in 4H-SiC single crystal film fabricated by Crystal-Ion-Slicing and its effects on electrical behavior: A multiple characterization study

切片 材料科学 表征（材料科学） 单晶 离子 离子注入 Crystal（编程语言） 光电子学 结晶学 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 计算机科学 万维网 有机化学 程序设计语言 色谱法
作者
Dailei Zhu,Wenbo Luo,G.W Wang,Kuangkuang Li,Limin Wan,Yuedong Wang,YiZhuo Gao,Yao Shuai,Chuangui Wu,Wanli Zhang
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2024-07-06 卷期号：670: 160673-160673 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2024.160673
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