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Molecular dynamics simulation of mechanical properties for silicon nitride deposited by PECVD method

等离子体增强化学气相沉积材料科学分子动力学化学气相沉积氮化硅复合材料残余应力硅氮化物沉积（地质）薄膜微观结构纳米压痕纳米技术化学工程应力松弛化学键

作者

Boqing Tian,Majiaqi Wu,Shihe Li,Zhengrong Guo,Lianqiao Yang

出处

期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2026-02-15 卷期号：731: 166339-166339

标识

DOI：10.1016/j.apsusc.2026.166339

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