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Optimization of Triangular-Profiled Si-Grating Fabrication Technology for EUV and SXR Applications
极紫外光刻
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制作
材料科学
光学
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物理
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病理
作者
D. V. Mokhov,
T. N. Berezovskaya,
K. Yu. Shubina,
E. V. Pirogov,
А. В. Нащекин,
V. A. Sharov,
Leonid I. Goray
出处
期刊：
Technical Physics
[Pleiades Publishing]
日期：2023-12-01
卷期号：68 (S1): S96-S101
标识
DOI：10.1134/s1063784223090116
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