Impact of molecular structure of polymer in 193 nm resist performance

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作者
Esma Ismailova,Raluca Tiron,Christos L. Chochos,Cyril Brochon,Philippe Bandelier,Damien Perret,Claire Sourd,Christophe Brault,Christophe A. Serra,Guy Schlatter,Georges Hadziioannou
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:86 (4-6): 796-799 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.mee.2008.11.072
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