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Deposition-power-modulated optical and electrical properties of sputtering-derived HfTiOx gate dielectrics

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作者

Peng Jin,Gang He,M. Liu,D.Q. Xiao,Juan Gao,X.F. Chen,Rui Ma,J.W. Zhang,M. Zhang,Zhaoqi Sun,Y.M. Liu

出处

期刊：Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
日期：2015-07-11 卷期号：649: 128-134 被引量：14

标识

DOI：10.1016/j.jallcom.2015.07.076

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