Study on the effect of He-doped plasma on the preparation of B4C coating as PFM

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作者
Xi Wu,Lin Li,Lin Li,Peng Zhao,Guodong Du,Guoyun Du,Hongling Li
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:244: 114866-114866
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2025.114866

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