Molecular dynamics study of silicon nitride thin film growth on nanoscale structures by plasma enhanced chemical vapor deposition

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作者
Jie Yu,Hua Shao,Junjie Li,Zemeng Feng,Longrui Xia,Rui Ge,Guobin Bai,Xiaobin He,Dianming Sun,Zhiqiang Li,Rui Chen,Yayi Wei
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:246: 115030-115030 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2025.115030
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