Evaluation of 1T-DRAM Based on Novel Triple-Gate Nanosheet RFET With Surrounded SiGe Channel

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作者
Xinyu Zou,Fuxing Gong,Mengge Jin,Han Jiang,Xiaojin Li,Yang Shen,Bingyi Ye,Yuhang Zhang,Yanling Shi,Shaoqiang Chen,Yabin Sun
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:: 1-7
标识
DOI:10.1109/ted.2025.3549398

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