Interfacial perpendicular magnetic anisotropy in CoFeB/MgO structure with various underlayers

材料科学 退火(玻璃) 凝聚态物理 磁化 磁各向异性 合金 各向异性 消磁场 垂直的 饱和(图论) 磁场 冶金 量子力学 组合数学 物理 几何学 数学
作者
Young‐Wan Oh,Kyeong‐Dong Lee,Jong‐Ryul Jeong,Byong‐Guk Park
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:115 (17) 被引量:66
标识
DOI:10.1063/1.4864047
摘要

Interfacial perpendicular magnetic anisotropy (PMA) in CoFeB/MgO structures was investigated and found to be critically relied on underlayer material and annealing temperature. With Ta or Hf underlayer, clear PMA is observed in as-deposited samples while no PMA was shown in those with Pt or Pd. This may be attributed to smaller saturation magnetization of the films with Ta or Hf underlayer, which makes the PMA of CoFeB/MgO interface dominates over demagnetization field. On the contrary, samples with Pt or Pd demonstrate PMA only after annealing, which might be due to the CoPt (or CoPd) alloy formation that enhances PMA.
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