Annealing effects on photoresist films' mechanical and chemical resistance

材料科学 退火(玻璃) 纳米压痕 光刻胶 复合材料 光刻 各向同性腐蚀 耐化学性 硬化(计算) 制作 纳米技术 蚀刻(微加工) 医学 病理 替代医学 图层(电子)
作者
Manuel Franco Avellaneda,Andrés Boasso,M. Sirena,Simón Roa
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier BV]
卷期号:41: 103181-103181 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2023.103181
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