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Investigating the effect of scaling and temperature on the performance of improved junctionless nanowire FET through simulation analysis

跨导 材料科学 线性 阈下斜率 光电子学 背景(考古学) 电气工程 阈下传导 电容 晶体管 阈值电压 电压 物理 工程类 电极 古生物学 生物 量子力学
作者
Bharti Bharti,Poornima Mittal
出处
期刊:Physica Scripta [IOP Publishing]
卷期号:99 (8): 086103-086103 被引量:6
标识
DOI:10.1088/1402-4896/ad63d4
摘要

Abstract An Improved Junctionless Nanowire Field Effect Transistor (I-JL-NWFET) device is proposed in this paper to address the limitations of conventional JL-NWFET. This research paper initially, comprehensively analyzes the impact of channel length ( L ) and channel thickness ( t si ) scaling on the electrical, analog/RF, and linearity performance of I-JL-NWFET and JL-NWFET. The results suggest that the specific design features in I-JL-NWFET contribute to a more robust and less sensitive response to variations in scaling compared to its counterpart, JL-NWFET. Furthermore, an exploration into the impact of temperature on the electrical, analog/RF, and linearity performance is also conducted for both I-JL-NWFET and JL-NWFET. The electrical performance of I-JL-NWFET showcases a significantly reduced temperature sensitivity in parameters like drain current ( I D ), Subthreshold Slope (SS) and Drain Induced Barrier Lowering (DIBL) compared to JL-NWFET. Subsequently, analyzing the analog/RF performance in the context of parameters such as transconductance ( g m ), Transconductance Gain Factor (TGF), output conductance ( g d ), early voltage ( V EA ), total gate capacitance ( C GG ), and cut-off frequency ( f T ) under temperature variation, a lower degree of variability in I-JL-NWFET is observed compared to JL-NWFET. Furthermore, the linearity performance of I-JL-NWFET, assessed through parameters such as second and third-order transconductance ( g m2 , g m3 ), second and third-order input voltage intercept points (VIP2, VIP3), and third-order intermodulation distortion (IIP3 and IMD3) is improved at the higher temperature than that of JL-NWFET.
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