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A Comparative Study on the Titanium Nitride (TiN) as a Diffusion Barrier Between Al/Si and Cu/Si: Failure Mechanism and Effect of “Stuffing”
作者
Ki-Chul Park,
Ki‐Bum Kim
出处
期刊:
MRS Proceedings
[Cambridge University Press]
日期:1995-01-01
卷期号:391
被引量:5
标识
DOI:10.1557/proc-391-211
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