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Thermal and electrical conduction in 6.4 nm thin gold films

材料科学 热传导 导电性 热的 薄膜 光电子学 纳米技术 工程物理 复合材料 热力学 物理
作者
Huan Lin,Shen Xu,Chong Li,Hua Dong,Xinwei Wang
出处
期刊:Nanoscale [Royal Society of Chemistry]
卷期号:5 (11): 4652-4652 被引量:40
标识
DOI:10.1039/c3nr00729d
摘要

For sub-10 nm thin metallic films, very little knowledge is available so far on how electron scattering at surface and grain boundaries reduces the thermal transport. This work reports on the first time characterization of the thermal and electrical conductivities of gold films of 6.4 nm average thickness. The electrical (σ) and thermal (k) conductivities of the Au film are found to be reduced dramatically from their bulk counterparts by 93.7% (σ) and 80.5% (k). Its Lorenz number is measured as 7.44 × 10−8 W Ω K−2, almost a twofold increase from the bulk value. The Mayadas–Shatzkes model is used to interpret the experimental results and reveals very strong electron reflection (77%) at grain boundaries.
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