Hydrogen-ion implantation in GaAs

作者
G. Gawlik,R. Ratajczak,A. Turos,J. Jagielski,Stephen W. Bedell,W.L Lanford
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:63 (4): 697-700 被引量:13
标识
DOI:10.1016/s0042-207x(01)00260-3

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