Silicon doping and N2 annealing effects on Zn3N2 thin film transistors

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作者
Kaiwen Li,Dong Lin,Jinhua Ren,Qun Zhang
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:197: 110864-110864 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2021.110864
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