Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering

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作者

Hagen Bartzsch,Daniel Glöß,B. Böcher,Peter Frach,K. Goedicke

出处

期刊：Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
日期：2003-05-01 卷期号：174-175: 774-778 被引量：135

链接

fraunhofer.de fraunhofer.dedoi.org

标识

DOI：10.1016/s0257-8972(03)00384-0

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