Properties of SiO2 and Al2O3 films for electrical insulation applications deposited by reactive pulse magnetron sputtering

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作者
Hagen Bartzsch,Daniel Glöß,B. Böcher,Peter Frach,K. Goedicke
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier BV]
卷期号:174-175: 774-778 被引量:135
标识
DOI:10.1016/s0257-8972(03)00384-0
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