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Temperature Dependence of SiInZnO Thin Film Transistor Fabricated by Solution Process

材料科学 薄膜晶体管 溶解过程 晶体管 阈值电压 氧化物薄膜晶体管 光电子学 饱和(图论) 铟 电压 纳米技术 电气工程 图层(电子) 数学 组合数学 工程类
作者
Sang Yeol Lee,Taehyun Kang,Sang Min Han,Young Seon Lee,Jun Young Choi
出处
期刊:Transactions on Electrical and Electronic Materials [Springer Science+Business Media]
卷期号:16 (1): 46-48 被引量:4
标识
DOI:10.4313/teem.2015.16.1.46
摘要

Thin film transistor (TFT) with silicon indium zinc oxide (SIZO) was fabricated by solution process, and the effect of annealling temperature on the electrical performance has been explored. The performance of SIZO TFT exhibited saturation mobility of $1.37cm^2$ /Vs, a threshold voltage of -7.2 V, and an on-off ratio of $1.1{\times}10^5$ .
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