Surface crystallization effects on tellurium oxide thin films for low-power complementary logic circuit applications

结晶 材料科学 薄膜 氧化物 功率(物理) 曲面(拓扑) 光电子学 纳米技术 化学工程 冶金 物理 工程类 数学 热力学 几何学
作者
Joon-Young Lee,Tae In Kim,Hyuck‐In Kwon,Ick-Joon Park
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:669: 160536-160536 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.160536
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