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Aerosol-assisted chemical vapor deposition of 2H-WS2 from single-source tungsten dithiolene precursors

化学气相沉积 材料科学 气溶胶 钨 化学工程 沉积（地质） 无机化学 纳米技术 冶金 有机化学 化学 古生物学 沉积物 生物 工程类
作者
Ian M. Germaine,Nathaniel E. Richey,Mary B. Huttel,Lisa McElwee‐White
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01 卷期号：12 (10): 3526-3534 被引量：1
链接
nih.gov nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d3tc03755j
摘要
Tungsten dithiolene complexes were used as single-source precursors for the aerosol-assisted chemical vapor deposition of WS 2 thin films.
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