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Selective Etching of Thick Si3N4, SiO2 and Si by Using CF4/O2 and C2F6 Gases with or without O2 or Ar Addition
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作者
Hee Kwan Lee,
Kwan Soo Chung,
Jae Su Yu
出处
期刊：
Journal of the Korean Physical Society
[Springer Science+Business Media]
日期：2009-05-15
卷期号：54 (5(1)): 1816-1823
被引量：36
标识
DOI：10.3938/jkps.54.1816
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