Influence of process pressure on HW-CVD deposited a-SiC:H films

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作者
Bibhu P. Swain
出处
期刊:Surface & Coatings Technology [Elsevier]
卷期号:201 (3-4): 1132-1137 被引量:25
标识
DOI:10.1016/j.surfcoat.2006.01.059

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