β Ga 2 O 3 / p-Si (100) based vertical diode deposited using RF sputtering for rectifier design

过程(计算) 材料科学 计算机科学 工作(物理) 产量(工程) 鉴定(生物学) 化学 工程类 直线(几何图形) 变形(气象学)
作者
Mandira Biswas,Lalit Katariya,Franco Mayanglambam,Shubhankar Majumdar,Ankush Bag
出处
期刊:Micro and nanostructures 卷期号:210: 208495-208495
标识
DOI:10.1016/j.micrna.2025.208495
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