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Effect of stress interruption on TDDB lifetime during constant voltage stressing in metal-ferroelectric-insulator-semiconductor ferroelectric devices

铁电性 材料科学 随时间变化的栅氧化层击穿 压力（语言学） 凝聚态物理 绝缘体（电） 半导体 电压 光电子学 电气工程 工程类 物理 晶体管 电介质 语言学 哲学 栅氧化层
作者
Tiang Teck Tan,Tian‐Li Wu,Hsien-Yang Liu,Cheng‐Yu Yu,K. Shubhakar,Nagarajan Raghavan,K. L. Pey
出处
期刊：Microelectronics Reliability [Elsevier BV]
日期：2024-12-30 卷期号：165: 115584-115584
标识
DOI：10.1016/j.microrel.2024.115584
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