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Characterization of Mo-6Ta alloy targets and its magnetron sputtering deposited thin film

材料科学 溅射沉积 溅射 冶金 微观结构 粒度 钼 薄膜 扫描电子显微镜 钽 合金 电子背散射衍射 高功率脉冲磁控溅射 复合材料 纳米技术
作者
Jiwen Li,Zhenhua Fu,Wei Liu,Guoshang Zhang,Shizhong Wei,Liujie Xu,Kunming Pan,Jie Shen,Jinghong Yang
出处
期刊：International Journal of Refractory Metals & Hard Materials [Elsevier BV]
日期：2021-12-18 卷期号：103: 105770-105770 被引量：8
标识
DOI：10.1016/j.ijrmhm.2021.105770
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