Band offsets, Schottky barrier heights, and their effects on electronic devices

半导体 材料科学 光电子学 肖特基势垒 带隙 电介质 兴奋剂 场效应晶体管 宽禁带半导体 氧化物 晶体管 物理 二极管 电压 量子力学 冶金
作者
John Robertson
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Institute of Physics]
卷期号:31 (5) 被引量:208
标识
DOI:10.1116/1.4818426
摘要

The authors review the band line-ups and band offsets between semiconductors, dielectrics, and metals,including the theory, experimental data, and the chemical trends. Band offsets have been critical in the choice of high dielectric constant oxides to be used in advanced metal oxide semiconductor field effect transistors. It turns out that band offsets are also critical in the theory of doping limits, design of transparent conducting oxides, organic semiconductors, and electrodes to use in light emitting devices, photovoltaic cells, and photochemical cells. It is shown how band line-ups can be understood in terms of charge neutrality levels. These are also related to states due to interstitial hydrogen.
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