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Highly-conformal nanocrystalline molybdenum nitride thin films by atomic layer deposition as a diffusion barrier against Cu

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作者
Yujin Jang,Jun Beom Kim,Tae Eun Hong,So Jeong Yeo,Sun-Ju Lee,Eun Ae Jung,Bo Keun Park,Taek‐Mo Chung,Chang Gyoun Kim,Do-Joong Lee,Han‐Bo‐Ram Lee,Soo‐Hyun Kim
出处
期刊：Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
日期：2015-12-23 卷期号：663: 651-658 被引量：46
链接
ac.krdoi.org
标识
DOI：10.1016/j.jallcom.2015.12.148
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