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Low-dark-current pin photodiodes using as-grown Ge with an i-Si insertion layer: Mechanism of dark current suppression
作者
Yasuhiko Ishikawa,
Sungbong Park,
Jiro Ōsaka,
Kazumi Wada
标识
DOI:10.1109/group4.2009.5338303
摘要
Low dark current of ~10 mA/cm2by inserting i-Si in as-grown Ge pin photodiodes is dominated by the carrier generation in wider-gap i-Si. This property is useful for photodiode applications of defective Ge prepared at low temperatures.
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