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Optimization of inductively coupled plasma deep etching of GaN and etching damage analysis

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作者
Rongfu Qiu,Hai Lu,Dunjun Chen,Rong Zhang,Youdou Zheng
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2010-10-21 卷期号：257 (7): 2700-2706 被引量：38
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2010.10.048
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