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Conduction mechanism of Schottky contacts fabricated on etch pits originating from single threading dislocation in a highly Si-doped HVPE GaN substrate

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作者
Toshikazu Satō,Takeaki Hamachi,Tetsuya Tohei,Yusuke Hayashi,Masayuki Imanishi,Shigeyoshi Usami,Yusuke Mori,Akira Sakai
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
日期：2023-08-13 卷期号：167: 107778-107778 被引量：5
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2023.107778
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