Solution-processed amorphous zinc indium tin oxide thin-film transistors with high stability under AC stress

材料科学 薄膜晶体管 无定形固体 压力(语言学) 氧化铟锡 图层(电子) 薄膜 氧化物 光电子学 冶金 复合材料 纳米技术 结晶学 语言学 化学 哲学
作者
Dongil Ho,Hyewon Jeong,Hun‐Bum Park,Sung Kyu Park,Myung‐Gil Kim,Choongik Kim
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
卷期号:11 (39): 13395-13402 被引量:1
标识
DOI:10.1039/d3tc02439c
摘要

Amorphous zinc–indium–tin oxide thin-film transistors with various Zn : In : Sn ratios are investigated to improve AC stress stability by suppressing hot carrier effects in the channel layer.

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