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Photoluminescence evidence for silicon Frenkel defects in electron irradiated 4H SiC

光致发光 材料科学 退火(玻璃) 辐照 空位缺陷 电子束处理 碳化硅 电子 弗伦克尔缺陷 晶体缺陷 分子物理学 碳纤维 原子物理学 光电子学 结晶学 化学 复合材料 核物理学 物理 复合数
作者
J. W. Steeds,Andrei Sarua
出处
期刊:AIP Advances [American Institute of Physics]
卷期号:13 (4) 被引量:2
标识
DOI:10.1063/5.0142923
摘要

The nature of defects in 4H SiC was studied by means of low temperature photoluminescence before and after energy-controlled electron irradiation. Analysis of experimental data from irradiation at energies above and below the Si displacement energy together with subsequent annealing leads to the conclusion that Si Frenkel defects have been detected experimentally in this material. Reasons why these are formed in some cases rather than carbon vacancy carbon antisite pairs are explored.
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