Investigation on origin of Ru-induced deep-level defects in 4H-SiC epilayer based Schottky diodes by DLTS and theoretical calculations

材料科学 肖特基二极管 深能级瞬态光谱 光电子学 二极管 肖特基势垒
作者
Joshua W. Kleppinger,Yuriy V. Pershin,Zsolt Rak,Krishna C. Mandal
标识
DOI:10.1117/12.2530177

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