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Roughness development in plasma etching under shadowing effect

材料科学 蚀刻（微加工） 表面光洁度 表面粗糙度 等离子体 复合材料 等离子体刻蚀 开发（拓扑） 光电子学 光学 过程（计算） 反应离子刻蚀 轮廓仪
作者
Xiao-Long Jiang,Zhang Chuanchao,Xiaoyu Luan,Hong-Ping Tang,Deng Qinghua,BaoShen Jia,Jing-xuan Wang,Liao Wei,Wei Ni,Qihua Zhu
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2025-09-13 卷期号：715: 164617-164617
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.164617
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