Facile diffusion of sulfur and fluorine into a-IGTO thin films for high-performance and reliability of transparent amorphous oxide semiconductor thin-film transistors

材料科学 薄膜晶体管 无定形固体 光电子学 阈值电压 氧化物 薄膜 等离子体 晶体管 纳米技术 电压 图层(电子) 电气工程 冶金 化学 物理 有机化学 工程类 量子力学
作者
Jin-Hwan Hong,Dongbhin Kim,Yubin Park,Jinha Ryu,Saemi Lee,Jongmin Yoo,Byoungdeog Choi
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
卷期号:169: 107872-107872 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2023.107872
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