材料科学
钙钛矿（结构）
透明导电膜
溅射
等离子体
重组
光电子学
辐照
导电体
辐射
氧化物
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溅射沉积
离子
辐射损伤
薄膜
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复合材料
光学
化学
冶金
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物理
有机化学
基因
核物理学
量子力学
生物化学
生物
沉积物
古生物学
作者
Qing Yang,Weiyuan Duan,Alexander Eberst,Benjamin Klingebiel,Yueming Wang,Ashish Kulkarni,Andreas Lambertz,Karsten Bittkau,Yongqiang Zhang,S. А. Vitusevich,Uwe Rau,Thomas Kirchartz,Kaining Ding
摘要
The origin of sputter damage during transparent conductive oxide deposition is ion bombardment rather than plasma radiation. Ion bombardment increased recombination, whereas plasma radiation reduced recombination.
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