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Influence of deposition power of PECVD intrinsic a-Si:H buffer layer on n+ poly-Si/SiO /c-Si passivating contacts

等离子体增强化学气相沉积 图层（电子） 沉积（地质） 材料科学 化学气相沉积 缓冲器（光纤） 硅 化学工程 化学 光电子学 纳米技术 电气工程 古生物学 工程类 沉积物 生物
作者
Zhirong Yao,Wei Si,Yingwen Zhao,Paul Procel,Engin Özkol,Guangtao Yang,Prasad Gonugunta,Prasaanth Ravi Anusuyadevi,Peyman Taheri,Olindo Isabella
出处
期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells [Elsevier BV]
日期：2025-05-15 卷期号：290: 113709-113709
标识
DOI：10.1016/j.solmat.2025.113709
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