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Electrical detection of domain evolution in magnetic Weyl semimetal Co3Sn2S2 submicrometer-wide wire devices

成核 矫顽力 凝聚态物理 Weyl半金属 材料科学 磁畴壁(磁性) 领域(数学分析) 磁滞 磁畴 磁化 半金属 物理 结晶学 磁场 热力学 化学 带隙 数学 数学分析 量子力学
作者
Junichi Shiogai,Junya Ikeda,Kohei Fujiwara,Takeshi Seki,Kōki Takanashi,Atsushi Tsukazaki
出处
期刊:Physical Review Materials [American Physical Society]
卷期号:6 (11) 被引量:6
标识
DOI:10.1103/physrevmaterials.6.114203
摘要

Microscopic understanding of magnetization switching via domain nucleation and/or domain-wall propagation is fundamental knowledge for developing magnetic and spintronic devices. Here, we explore the underlying mechanism of the large coercivity of the magnetic Weyl semimetal ${\mathrm{Co}}_{3}{\mathrm{Sn}}_{2}{\mathrm{S}}_{2}$ thin films, which is roughly ten times larger than that of ${\mathrm{Co}}_{3}{\mathrm{Sn}}_{2}{\mathrm{S}}_{2}$ bulk single crystal, by measuring Hall resistance in constricted wire devices. The discretized steplike variations appear in the hysteresis loops of the Hall resistance in $0.6\phantom{\rule{4pt}{0ex}}\phantom{\rule{0.28em}{0ex}}\ensuremath{\mu}\mathrm{m}$ wide and narrower devices, indicating that the size of the reversed magnetic domain is comparable to the active area of the Hall devices. By counting the number of discrete features, the average diameter of the reversed magnetic domain is estimated to be 80 nm. Individually, the diameter of the reversed domain nucleus is evaluated to be roughly 2 nm. Considering the difference in the diameters of the reversed magnetic domain and the reversed domain nucleus, we ascribed the large coercivity of the ${\mathrm{Co}}_{3}{\mathrm{Sn}}_{2}{\mathrm{S}}_{2}$ thin films to a large nucleation field owing to the uniform crystallinity within grains and strong domain-wall pinning at grain boundaries specific to the thin films. With the large nucleation field in the films, an engineering of the domain-wall pinning sites is a promising approach to control the nucleation, manipulation, and detection of the single domain wall in ${\mathrm{Co}}_{3}{\mathrm{Sn}}_{2}{\mathrm{S}}_{2}$ thin-film devices.
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