Environmental Impact Assessment of Chemical Mechanical Planarization Consumables: Challenges, Future Needs, and Perspectives

消耗品 持续性 环境影响评价 化学机械平面化 背景(考古学) 资源(消歧) 业务 工程类 计算机科学 机械工程 生态学 计算机网络 生物 抛光 古生物学 营销
作者
Ravitej Venkataswamy,Lyle Trimble,Andrew G. McDonald,Douglas R. Nevers,Leticia Vazquez Bengochea,Andrew T. Carswell,Alan Rossner,Jihoon Seo
出处
期刊:ACS Sustainable Chemistry & Engineering [American Chemical Society]
卷期号:12 (32): 11841-11855 被引量:11
标识
DOI:10.1021/acssuschemeng.4c03195
摘要

This paper provides a detailed overview of the environmental impacts and sustainability of chemical mechanical planarization (CMP) consumable manufacturing in the semiconductor industry, especially in the context of rising global demand for semiconductors. It addresses the significant environmental challenges faced by the industry, particularly in terms of energy, water, and material consumption. A thorough examination of the manufacturing processes for key CMP consumables, such as slurries, pads, brushes, cleaning solutions, and conditioners, is discussed. The environmental impact of each process highlights the considerable role CMP consumables play in the industry's overall environmental footprint. The production of CMP slurries and pads is particularly energy- and water-intensive, uses hazardous materials, and significantly contributes to greenhouse gas emissions and resource depletion. While the environmental impacts of PVA brushes, cleaning solutions, and conditioners are relatively minor, their production still requires careful consideration. In response to these challenges, this paper proposes a vision for future CMP sustainability analysis, emphasizing a collaborative approach among chipmakers, consumable manufacturers, and academic institutions to enable the understanding of the environmental impacts of different materials used in consumable manufacturing and assist in the selection of environmentally friendly options. We highlight an urgent need for the CMP community to adopt comprehensive sustainability practices with a particular focus on consumable manufacturing.
最长约 10秒,即可获得该文献文件

科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
更新
PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)

科研通是完全免费的文献互助平台,具备全网最快的应助速度,最高的求助完成率。 对每一个文献求助,科研通都将尽心尽力,给求助人一个满意的交代。
实时播报
蛋包洋芋完成签到,获得积分10
1秒前
Bgeelyu发布了新的文献求助10
1秒前
科研通AI2S应助文艺紫菜采纳,获得10
1秒前
陶沛槐完成签到 ,获得积分10
1秒前
皮卡发布了新的文献求助10
3秒前
wll发布了新的文献求助30
4秒前
4秒前
飞翔的企鹅完成签到,获得积分10
5秒前
Maestro_S应助liuxy采纳,获得10
5秒前
天天快乐应助阔达绿凝采纳,获得10
6秒前
lucky发布了新的文献求助10
6秒前
阿涛完成签到,获得积分10
7秒前
7秒前
8秒前
欧阳同志完成签到 ,获得积分10
8秒前
星辰大海应助Bgeelyu采纳,获得10
8秒前
唐大春完成签到,获得积分10
9秒前
9秒前
科盲TCB完成签到,获得积分10
10秒前
科研通AI6应助陶醉书琴采纳,获得10
10秒前
Catherkk完成签到,获得积分10
11秒前
科目三应助不知名网友采纳,获得10
13秒前
13秒前
Zer发布了新的文献求助10
13秒前
钻石DrWang完成签到 ,获得积分10
14秒前
高大绝义发布了新的文献求助10
15秒前
领导范儿应助渔婆采纳,获得10
15秒前
16秒前
桐桐应助车剑锋采纳,获得10
16秒前
在水一方应助洁净的天德采纳,获得10
18秒前
哈基米发布了新的文献求助200
18秒前
Zer完成签到,获得积分10
19秒前
wew发布了新的文献求助10
19秒前
洗衣机别洗鞋完成签到,获得积分10
20秒前
汉堡包应助甜甜亦丝采纳,获得10
20秒前
20秒前
yjh完成签到,获得积分10
21秒前
思源应助wll采纳,获得10
21秒前
思源应助lucky采纳,获得10
21秒前
纯粹完成签到,获得积分10
21秒前
高分求助中
Encyclopedia of Quaternary Science Third edition 2025 12000
(应助此贴封号)【重要!!请各用户(尤其是新用户)详细阅读】【科研通的精品贴汇总】 10000
HIGH DYNAMIC RANGE CMOS IMAGE SENSORS FOR LOW LIGHT APPLICATIONS 1500
The Social Work Ethics Casebook: Cases and Commentary (revised 2nd ed.). Frederic G. Reamer 800
Beyond the sentence : discourse and sentential form / edited by Jessica R. Wirth 600
Holistic Discourse Analysis 600
Vertébrés continentaux du Crétacé supérieur de Provence (Sud-Est de la France) 600
热门求助领域 (近24小时)
化学 材料科学 医学 生物 工程类 有机化学 生物化学 物理 纳米技术 计算机科学 内科学 化学工程 复合材料 物理化学 基因 遗传学 催化作用 冶金 量子力学 光电子学
热门帖子
关注 科研通微信公众号,转发送积分 5343132
求助须知:如何正确求助?哪些是违规求助? 4478698
关于积分的说明 13940563
捐赠科研通 4375705
什么是DOI,文献DOI怎么找? 2404201
邀请新用户注册赠送积分活动 1396695
关于科研通互助平台的介绍 1369094