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Atomic-level surface formation of large-size SiC substrates by chemical mechanical polishing: interfacial chemistry and removal mechanism
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作者
Xin Song,
Yiran Zou,
Jiani Guo,
Zhigang Dong,
Renke Kang,
Shang Gao
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2026-01-01
卷期号：14 (30): 13465-13484
被引量：2
标识
DOI：10.1039/d6tc01597b
摘要
A CeO 2 –KMnO 4 -PVP slurry enables atomic-level finishing of large-size SiC substrates CeO 2 forms Ce–O–Si bonds with the oxidized SiO 2 layer, promoting selective reaction-layer removal.
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