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Effect of Substrate Rotation on The Growth Behavior and Topography of the Ti Film Deposited Over a Large Area Using DC Magnetron Sputtering with a Rectangular Target: Simulation approach and experiment

旋转（数学） 材料科学 组合数学 物理 数学 几何学
作者
Ali Ayachi Omar,Chaima Ayachi Amar,Н Ф Кашапов,A. Amor,Abdelouahed Ayachi Amar,Segni Ladjel,Alexander Grigoryvich Luchkin,F. Amar,Awni Y Al-Otoom,Omar Ben ElKhettab Mokrani
出处
期刊：Materials today communications [Elsevier BV]
日期：2024-11-04 卷期号：41: 110895-110895
标识
DOI：10.1016/j.mtcomm.2024.110895
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