| 标题 |
Modeling of magnetically enhanced capacitively coupled plasma sources: Ar discharges |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Mark J. Kushner 出版日期:2003-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)