Ge incorporation in kesterite thin films by solution processing route: An in-depth study of structural and optoelectronic properties

锌黄锡矿 材料科学 薄膜 光电子学 结晶学 纳米技术 化学 捷克先令
作者
D. Mora-Herrera,Sadasivan Shaji,Mou Pal
出处
期刊:Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
卷期号:921: 166184-166184 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.jallcom.2022.166184

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