A Comparative Study of HBr-Ar and HBr-Cl2 Plasma Chemistries for Dry Etch Applications

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作者
Alexander Efremov,Young‐Keun Kim,Hyun–Woo Lee,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Plasma Chemistry and Plasma Processing [Springer Science+Business Media]
卷期号:31 (2): 259-271 被引量:33
标识
DOI:10.1007/s11090-010-9279-7
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