A Comparative Study of HBr-Ar and HBr-Cl2 Plasma Chemistries for Dry Etch Applications

化学 朗缪尔探针 等离子体 托尔 分析化学(期刊) 焊剂(冶金) 体积流量 稀释 硅烷 离子 等离子体诊断 热力学 色谱法 量子力学 物理 有机化学
作者
Alexander Efremov,Young‐Keun Kim,Hyun–Woo Lee,Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:Plasma Chemistry and Plasma Processing [Springer Science+Business Media]
卷期号:31 (2): 259-271 被引量:33
标识
DOI:10.1007/s11090-010-9279-7
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