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A Comparative Study of HBr-Ar and HBr-Cl2 Plasma Chemistries for Dry Etch Applications
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有机化学
作者
Alexander Efremov,
Young‐Keun Kim,
Hyun–Woo Lee,
Kwang‐Ho Kwon
出处
期刊:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
[Springer Science+Business Media]
日期:2010-12-28
卷期号:31 (2): 259-271
被引量:33
标识
DOI:10.1007/s11090-010-9279-7
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