Enhancing temperature stability of ALD-deposited IGZO thin-film transistor by optimizing composition ratio

材料科学 薄膜晶体管 作文(语言) 晶体管 薄膜 热稳定性 原子层沉积 纳米技术 光电子学 化学工程 工程物理 电气工程 物理 工程类 语言学 哲学 图层(电子) 电压
作者
Jianting Wu,Huajian Zheng,Min Guo,Yi‐Fu Huang,Xiaoci Liang,Qian Wu,Chuan Liu
出处
期刊:Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
卷期号:1022: 179753-179753 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.jallcom.2025.179753
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