Ultrahigh Conductive MXene Films for Broadband Electromagnetic Interference Shielding

MXenes公司 材料科学 电磁屏蔽 电磁干扰 导电体 电磁干扰 光电子学 电导率 纳米技术 复合材料 电子工程 物理 工程类 量子力学
作者
Ju‐Hyoung Han,Jae-Eun Park,M.-K. Kim,Sung‐Woo Lee,Jin Myeong Heo,Young Ho Jin,Yujin Chae,Juwon Han,Jaewon Wang,Shi‐Hyun Seok,Yeoseon Sim,Gangil Byun,Gun‐Do Lee,EunMi Choi,Soon‐Yong Kwon
出处
期刊:Advanced Materials [Wiley]
标识
DOI:10.1002/adma.202502443
摘要

Abstract Broadband and ultrathin electromagnetic interference (EMI)‐shielding materials are crucial for efficient high‐frequency data transmission in emerging technologies. MXenes are renowned for their outstanding electrical conductivity and EMI‐shielding capability. While substituting nitrogen (N) for carbon (C) atoms in the conventional MXene structure is theoretically expected to enhance these properties, synthesis challenges have hindered progress. Here, it is demonstrated that Ti x C y N x ‐ y ‐1 T z MXene films with optimized N content achieve a record‐high electrical conductivity of 35 000 S cm −1 and exceptional broadband EMI shielding across the X (8–12.4 GHz), K a (26.5–40 GHz), and W (75–110 GHz) bands—outperforming all previously reported materials even at reduced thicknesses. By synthesizing a full series of high‐stoichiometric Ti x AlC y N x ‐ y ‐1 MAX phases without intermediate phases, the impact of N substitution on the physical and electrical properties of Ti x C y N x ‐ y ‐1 T z MXene flakes is systematically explored, achieving complete composition tunability in both dispersion and film forms. These findings position Ti x C y N x ‐ y ‐1 T z MXenes as promising candidates for applications spanning from conventional lower‐frequency domains to next‐generation sub‐THz electronics.
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