THERMAL STABILITY OF HARD TANTALUM BORIDE FILMS

Článek pojednává o fyzikálních a mechanických vlastnostech vrstev boridu tantalu s podstechiometrickým složením (TaBx < 2) připravených magnetronovým naprašováním. Vrstvy byly připraveny z TaB2 terče. Bylo prokázáno, že stechiometrický koeficient x, TaBx vrstvy, silně souvisí s jejím bombardováním ionty, řízeným záporným předpětím Us na substrátu. Bylo zjištěno, že vrstvy TaBx < 2 s podstechiometrickým složením vykazují při strukturní rentgenové analýze amorfní strukturu, jsou tvrdé a ohebné s vysokým poměrem H/E* a zvýšenou odolností proti vzniku trhlin; zde H je tvrdost a E* je efektivní Youngův modul pružnosti materiálu vrstev. V článku jsou uvedeny podmínky, za kterých byly vrstvy vytvořeny. Dále je rovněž zmíněna tepelná stabilita naprášených TaBx vrstev a jejich odolnost vůči oxidaci při jejich tepelném žíhání ve vzduchu.