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Sequential model-based design of experiments for development of mathematical models for thin film deposition using chemical vapor deposition process
作者
Ali Shahmohammadi,
Roger T. Bonnecaze
出处
期刊:
Chemical Engineering Research & Design
[Elsevier BV]
日期:2020-06-02
卷期号:160: 74-88
被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.cherd.2020.04.032
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