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Effect of annealing on the mobility and morphology of thermally activated pentacene thin film transistors

退火(玻璃) 光电子学 晶体管 薄膜 阈值电压 结晶度 场效应晶体管
作者
Dong Guo,Susumu Ikeda,Koichiro Saiki,Hiroyuki Miyazoe,Kazuo Terashima
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:99 (9): 094502- 被引量:82
标识
DOI:10.1063/1.2193055
摘要

Pentacene thin film transistors (TFTs) were fabricated by the organic molecular beam deposition method. The TFTs were characterized in order to study the effect of thermal annealing on the morphology and carrier mobility of the transistors. For all the TFT samples the mobility exhibited an Arrhenius relationship with temperature, indicating a thermally activated transport that could be explained by the carrier trap and thermal release transport mechanism. Therefore, in order to investigate the annealing effect, we tested the data for a significant period of time after annealing until the temperature recovered to room temperature, so that the thermal activation effect was screened and possible effects of thermal expansion and stress were also ruled out. As a result, we found that only with a temperature below a critical temperature of approximately 45°C could annealing improve the mobility, while annealing with T>50°C would decrease the mobility compared to the value before annealing. Atomic force microsco...
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