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Aluminum oxide and other ALD materials for Si surface passivation
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作者
G. Dingemans,
Wmm Erwin Kessels
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tue.nl
tue.nl
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narcis.nl
doi.org
标识
DOI：10.1149/1.3633680
摘要
The high level of passivation of Si surfaces afforded by Al2O3 synthesized by atomic layer deposition (ALD) was the incentive to test.
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