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Atomic layer deposition of Al2O3 thin films using trimethylaluminum and acetone

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作者
Yeji Lee,Daeun Lim,Jong-Hyun Kim,Hyeongjun Kim,Dongchul Sung,Suklyun Hong,Eun A Kim,Seong‐Yong Cho,Sungkyu Kim,Woongkyu Lee
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2025-11-08 卷期号：720: 165174-165174
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165174
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